推特 文爱 苹果屏下Face ID专利曝光 挖孔屏或被废弃

由于Face ID依赖于深感录像头投射并分析大宗点以精确捕捉东说念主脸数据，刻下时候尚无法将系统中的红外录像头、点阵投影器等中枢组件竣工融入屏幕之下。因此，现在只可弃取调和政策推特 文爱，使用药丸屏经营当作惩办决议。

据媒体报说念，苹果近期赢得了一项对于屏下Face ID的专利，该专利到手攻克了屏下录像头的时候瓶颈。

据了解推特 文爱，屏下Face ID枢纽攻克的是提高红外光透光率的艰巨。尽管红外光概况穿线路出屏，但其透射次第极低，若凯旋置于屏幕下方，将导致东说念主脸识别速率大幅下落，且安全性和可靠性也会受到影响。

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最新专利揭示，苹果通过移除部分子像素，使得红外光概况到手穿透盖板，已矣屏下东说念主脸识别功能。

展望这一决议最早将于2026年的iPhone 18系列中得以期骗，届时iPhone 18系列将袭取单挖孔屏经营，告别现存的药丸屏神情。